平流泵是一種主要用于氣體輸送的機械設備,它能夠產生低壓差、高流量的氣體移動效果,在工業(yè)和科研領域中有著廣泛的應用。
一、原理
采用的是分子撞擊式氣體輸送原理,該原理與傳統(tǒng)離心式或正壓式氣體輸送方式不同。具體來說,通過生成多個驅動分子束,使得氣體在管道中沿著相同方向運動,消除了傳統(tǒng)壓力差產生的氣體抗力,從而實現(xiàn)低壓差、高流量的氣體輸送。
二、結構
平流泵主要由發(fā)生器、排氣器、氣流引導管和控制系統(tǒng)等部件組成。其中,發(fā)生器是核心部件,它包括了多個聚焦電極和大量特殊材料制成的三角錐形驅動體,通過加熱和脈沖電壓激勵的方式,使驅動體產生碰撞,并帶動氣體運動。排氣器則是用于將氣體排出的部件,它通常被設計為集成在發(fā)生器內部或與發(fā)生器直接相連。氣流引導管則用于引導氣體流動,并保持其穩(wěn)定運行??刂葡到y(tǒng)則負責對各項參數(shù)進行實時監(jiān)控和調節(jié)。
三、性能
相比傳統(tǒng)的壓差式氣體輸送方式,具有許多*的性能特點。
它能夠產生極低的壓力差,從而減少氣體抗力,提高了氣體輸送效率;
能夠實現(xiàn)高流量的氣體移動,這使得它在大型工業(yè)設備的氣體輸送中具有很好的應用前景;
還能夠處理低密度氣體,如氫氣、氦氣等,在科研領域中也有著廣泛的應用。
四、應用領域
目前在許多領域中得到了廣泛的應用。其中,較大的應用領域是半導體制造和電子行業(yè),在半導體制造過程中起著至關重要的作用,能夠將高純度氣體輸送到反應室中,以滿足半導體制造的高要求。此外,還可用于真空蒸鍍、光學薄膜沉積等工業(yè)領域中。在科研領域中,則常用于各種氣體傳輸和實驗室氣體處理任務。
平流泵是一種重要的氣體輸送設備,具有低壓差、高流量、適用于低密度氣體等諸多優(yōu)勢,在半導體、能源、醫(yī)療和科研等領域中得到了廣泛的應用。